华为余承东：国内正在研发极紫外光刻设备，华为持续优化芯片架构应对技术限制

华为常务董事余承东表示，国内正在进行极紫外光刻（EUV）设备的研发；华为目前通过“逻辑折叠”等系统工程方法，弥补先进制程受限带来的影响。